CVD Silisyum Karbür (SiC) Kaplama

CVD SiC kaplama, temelde grafit üzerine biriktirilmiş bir silisyum karbür tabakasıdır ve hem sıcaklığın hem de temizliğin önemli olduğu epitaksi aletlerinde yaygın olarak kullanılır. Gerçek üretim hatlarında, AIXTRON, ASM/LPE, Veeco'nun yanı sıra bazı AMAT ile ilgili platformların sistemlerinde sıklıkla görülür. Kullanışlı kılan sadece sıcaklık direnci değil, uzun çalışma süreleri boyunca genel kararlılığıdır. Tipik epitaksi koşullarında (hidrojen, amonyak veya hatta klorlu gazlar) kaplama nispeten kararlı kalır ve altındaki grafiti korur. Bu, termal alanın daha tutarlı kalmasına yardımcı olur ve büyüme sırasında parçacıkların ortaya çıkma olasılığını azaltır.

Çoğu zaman kaplama, susceptörler, gofret taşıyıcıları, grafit halkalar veya yarım ay şeklindeki bileşenler gibi parçalara uygulanır. Bunların hepsi doğrudan gofret ısıtma veya konumlandırma işleminde yer alır, bu nedenle en ufak bir kararsızlık bile verimi etkileyebilir. Bu nedenle, kaplanmış parçalar genellikle, özellikle 4 ila 12 inçlik üretimde, birden fazla döngü boyunca güvenilir olmaları gereken sarf malzemeleri olarak değerlendirilir.