Termal Alan Grafit Parçaları

Termal Alan Grafit Parçaları, sıcaklık tutarlılığının kristal kalitesini, katkılama hassasiyetini ve kusur yoğunluğunu doğrudan belirlediği epitaksiyel reaktörlerdeki ısı ortamının temel mimarisini oluşturur. Çalışma sıcaklıklarının 1600°C'yi aşabildiği Si ve SiC epitaksisinde, izostatik grafit ısıtıcılarımız, suseptörlerimiz, reflektörlerimiz ve yalıtım kalkanlarımız, düzgün film büyümesi için gerekli olan kararlı ve simetrik bir termal alan oluşturur.

Bu bileşenler, minimum partikül oluşumu ve optimum gofret kenarı ve merkezden kenara homojenliği sağlamak için son derece düşük metalik kirlenmeye sahip ultra yüksek saflıkta grafit kaliteleri kullanılarak üretilir. H₂, Cl₂, NH₃ ve hidrokarbon öncüllerine karşı direnç için tasarlanmış gelişmiş SiC kaplamalarla birleştirilen Semixlab'ın grafit parçaları, uzun süreli, yüksek sıcaklık döngülerinde yapısal bütünlüğü ve termal verimliliği koruyarak hem yatay hem de dikey epitaksi sistemlerinde bakım arasındaki ortalama süreyi önemli ölçüde uzatır.

Epitaksi ötesinde, termal alan grafit bileşenleri, özellikle SiC MOSFET'ler olmak üzere geniş bant aralıklı cihazlar için yüksek sıcaklıkta tavlamada belirleyici bir rol oynar. Bu uygulamalar, inert veya vakum atmosferlerinde 1700–1800°C'ye yaklaşan sıcaklıklarda kararlılık gerektirir. Semixlab'ın mühendislik ürünü grafit ısıtıcıları, suseptör tepsileri ve yalıtım silindirleri, katkı maddesi aktivasyonu, ohmik temas oluşumu ve kusur onarımı sırasında gofretin düzgün termal maruziyetini sağlar. Bileşenlerimiz, aksi takdirde gofret bükülmesine, kayma çizgilerine veya kristal gerilimine neden olabilecek termal gradyanları azaltır; bunların tümü cihaz performansı ve verimi için zararlıdır. Semixlab çözümleri tarafından üretilen optimize edilmiş termal alan, katkı maddesi aktivasyon verimliliğini artırır ve termal şoku azaltarak tekrarlanabilir ve sıkı bir şekilde kontrol edilen yüksek sıcaklık işlemlerini mümkün kılar.

Czochralski tek kristal fırın termal alanı

Yarı iletken levhaların saniyede yüzlerce derece mertebesinde hızlı ısıtma ve soğutma döngülerinden geçmesi gereken RTP ve RTA sistemlerinde, hassas termal alan bileşenleri de aynı derecede kritiktir. RTP esas olarak lamba tabanlı ısıtma kullanmasına rağmen, genellikle pirolitik grafit reflektörlerden, düşük gaz salınımlı grafit desteklerden ve tasarlanmış koruyucu bileşenlerden oluşan iç termal mimari, radyasyon enerjisinin levhaya nasıl ulaşacağını belirler.

Semixlab'ın grafit parçaları, radyatif ısı dağılımını stabilize etmek, kenar sıcak nokta etkilerini bastırmak ve bükülme veya gaz salınımı olmadan ultra hızlı termal geçişleri desteklemek üzere tasarlanmıştır. Bu, gelişmiş CMOS düğümlerinde katkı maddesi aktivasyonu, silisit oluşumu, ultra sığ bağlantıların tavlanması, geçit yığını optimizasyonu ve gerilim mühendisliği işlemleri gibi kritik adımlar için işlem homojenliğini sağlar.

Tüm bu yüksek sıcaklık süreçlerinde, Semixlab'ın her bir Termal Alan Grafit Parçası, ısı akışını optimize etmek, sıcaklık gradyanlarını azaltmak ve tekrarlanan termal şok, aşındırıcı kimyasallar ve ultra temiz vakum ortamlarında güvenilir bir şekilde çalışmak üzere tasarlanmıştır. Entegre kalite sistemimiz, önde gelen yarı iletken ekipman üreticilerinin gereksinimlerini karşılayan veya aşan boyutsal doğruluk, yüzey saflığı ve kaplama yapışma tutarlılığını sağlar. Semixlab, Çin'deki uzun vadeli ortağınız olmayı içtenlikle ummaktadır.