EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Yüksek saflıkta kuvars difüzyon tüpü
Semixlab, yarı iletken oksidasyon, difüzyon ve tavlama işlemleri için yüksek saflıkta kuvars difüzyon tüplerinin tasarımı ve üretiminde uzmanlaşmış, Çin'in önde gelen kuvars bileşen üreticilerinden biridir. Ultra saf erimiş silikadan (≥%99.99 SiO₂) üretilen ve hassas şekillendirme ve sıkı kontaminasyon kontrolüyle rafine edilen her tüp, olağanüstü termal stabilite ve ultra düşük metal safsızlık seviyeleri sağlar. Daha fazla danışmanlık için sabırsızlanıyoruz.
Açıklama
Semixlab Yüksek Saflıkta Kuvars Difüzyon Tüpü, oksidasyon, katkı maddesi difüzyonu ve tavlama dahil olmak üzere yarı iletken üretiminde yüksek sıcaklıktaki termal prosesler için özel olarak tasarlanmıştır.
Ultra yüksek saflıkta erimiş silikadan (≥%99.99 SiO₂) üretilen her tüp, olağanüstü kimyasal kararlılık, minimum kirlenme ve hassas termal homojenlik sağlamak üzere tasarlanmıştır; bu sayede zorlu temiz oda ortamlarında tutarlı gofret işleme sonuçları elde edilir.
Semixlab'ın kuvars tüpleri, dikey veya yatay difüzyon fırınlarına entegre edilmiş olsun, IC, LED, MEMS ve güç cihazı üretiminin sıkı gereksinimlerini karşılamak üzere hassas bir şekilde şekillendirilmiş ve kapsamlı bir şekilde test edilmiştir.
Başvurular
Yarı İletken Proseslerinde Uygulamalar
1. Termal Oksidasyon
Termal oksidasyon fırınlarında kuvars difüzyon tüpleri, silikon gofretlerin yüksek sıcaklıklarda (900–1150°C) O₂ veya H₂O buharına maruz bırakıldığı birincil reaksiyon odası görevi görür.
● Üniform SiO₂ büyümesi için temiz ve stabil bir oksijen ortamı sağlar.
● Metal iyon kirliliğini ortadan kaldırarak, kapı ve izolasyon oksitleri için yüksek dielektrik bütünlüğü sağlar.
Yüksek saflıkta kuvars Difüzyon Tüpü, gofret işleme için idealdir
2. Katkı Maddesi Difüzyonu
Kuvars difüzyon tüpleri, istenen bağlantı profillerini oluşturmak için katkı atomlarını (fosfor veya bor gibi) silikon alt tabakaya yaymak için kullanılır.
● Mükemmel kimyasal inertlik, POCl₃ veya BBr₃ reaksiyonları sırasında kontaminasyonu önler.
● Halojen bazlı atmosferlerde bile yüksek saflığı korur.
3. Tavlama ve Drive-In İşlemleri
İyon aşılama veya biriktirme işleminden sonra, yonga plakaları, katkı maddelerini aktive etmek ve kafes hasarını onarmak için yüksek sıcaklıkta tavlama işlemine tabi tutulur.
● Kuvars tüpler, kararlı ve tekrarlanabilir sonuçlar için termal olarak homojen, düşük kontaminasyonlu bir oda sağlar.
● Hem N₂ hem de şekillendirme gazı tavlama ortamları için uygundur.
4. LPCVD ve Ar-Ge Isıl İşlem
Küçük ölçekli LPCVD veya araştırma fırınlarında kuvars difüzyon tüpleri hem reaksiyon hem de tutma odası olarak kullanılabilir.
● Polisilikon, silisyum nitrür ve oksit filmlerin biriktirilmesi için idealdir.
● Çalışmalar boyunca düşük partikül oluşumu ve yüksek tekrarlanabilirlik sağlar.
Rekabet Avantajı
Semixlab Avantajları
1. Malzeme Saflığı ve İzlenebilirlik
Her kuvars tüp, sertifikalı tedarikçilerden temin edilen ultra saf erimiş silikadan üretilir. Talep üzerine ICP-MS analiz raporları sunularak her partinin izlenebilirliği garanti altına alınır.
2. Hassas Üretim ve Özelleştirme
Semixlab, müşterilerin ihtiyaç duyduğu özel fırın boyutlarını, termal profilleri ve gaz akış modellerini karşılamak üzere özelleştirilmiş tasarımlar sunmaktadır.
Seçenekler şunlardır:
● Dikey veya yatay boru konfigürasyonları
● Özelleştirilmiş çaplar, duvar kalınlıkları ve uç flanşları
● Cilalı veya aşındırılmış yüzey kaplamaları
● Çoklu gofret taşıyıcıları için özel taşıma tasarımları
3. Titiz Testler ve Kalite Güvencesi
Her difüzyon tüpü, sevkiyattan önce boyutsal muayene, yüzey bütünlüğü testi ve termal gerilim simülasyonundan geçirilir. Bu sayede, TEL, Kokusai, Centrotherm ve ASM gibi sektör lideri difüzyon fırın sistemleriyle uyumluluk sağlanır.
