Yarı iletken kuvars gofret

Semixlab Yarı İletken Kuvars Plaka, zorlu yarı iletken işleme ortamları için tasarlanmış, hassas bir şekilde cilalanmış, ultra yüksek saflıkta erimiş silika alt tabakadır.

Termal oksidasyon, CVD/LPCVD, PECVD ve litografi sistemlerinde yaygın olarak kukla gofret, taşıyıcı gofret, optik alt tabaka ve fotomaske tabanı olarak uygulanır.

%99.99 yüksek saflıkta SiO₂'den üretilen bu kuvars gofret, olağanüstü termal kararlılık, kimyasal atalet ve optik şeffaflık sunarak gelişmiş yarı iletken üretim hatlarında istikrarlı ve kontaminasyonsuz çalışmayı garanti eder.

Ⅰ. Malzeme ve Yüzey Özellikleri

● Malzeme: Sentetik veya doğal eritilmiş silika (SiO₂ ≥ %99.99).

● Çap Seçenekleri: 2", 4", 6", 8", 12" (özel boyutlar mevcuttur).

● Yüzey İşlemi: Çift taraflı cilalı, düzlük ≤ 5 μm, yüzey pürüzlülüğü ≤ 0.5 nm.

● Isıl Direnç: 1200°C'ye kadar sürekli çalışmada kararlıdır.

● Isıl Genleşme Katsayısı: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optik İletim: 190 nm'den 2,600 nm'ye kadar %90'dan fazla.

Her bir gofret, yarı iletken sınıfı gerekliliklerine tam uyumu garantilemek için sıkı yüzey denetiminden, boyut doğrulamasından ve saflık analizinden geçer.

Ⅱ. Yarı İletken Proseslerindeki Temel Fonksiyonlar

1. CVD ve LPCVD Sistemlerinde Proses Taşıyıcısı

Kuvars gofretler, SiO₂, Si₃N₄ ve polisilikon ince film biriktirme sırasında gaz akışını ve sıcaklık homojenliğini dengelemek için sahte veya ara gofret olarak kullanılır. Boyutsal hassasiyetleri, biriktirme döngüleri boyunca homojen film büyümesi ve minimum partikül oluşumu sağlar.

2. Oksidasyon ve Difüzyon Fırını Uygulamaları

Yüksek sıcaklıkta oksidasyon ve katkı maddesi difüzyon proseslerinde kuvars gofretler, termal kalkan veya proses izleyicisi görevi görerek, homojen sıcaklık dağılımını korur ve üretim gofretlerinin kirlenmesini önler.

3. Optik ve Litografi Kullanımı

Yüksek optik geçirgenliği ve kırılma indisi homojenliği sayesinde kuvars gofret, fotomaske üretimi, DUV pozlama altlıkları ve optik kalibrasyon araçları için idealdir. i-line, KrF ve ArF litografi sistemleri için tutarlı ışık iletimi sağlar.

4. Plazma ve Aşındırma Ortamları

Kuru aşındırma ve plazma CVD sistemlerinde kuvars gofretler, halojen bazlı gazlara (CF₄, SF₆, Cl₂) karşı mükemmel dielektrik mukavemeti ve kimyasal dayanıklılık sunan oda kalkanları veya plazma pencereleri olarak kullanılır.

5. Metroloji ve Ekipman Kalibrasyonu

Kuvars gofretler, film kalınlığı, sıcaklık ve düzlük kalibrasyonu için referans gofretler olarak kullanılır. Ultra pürüzsüz ve kusursuz yüzeyleri, doğru ve tekrarlanabilir ölçüm sonuçları sağlayarak proses kontrol istikrarını garanti eder.

Tipik uygulamalar

● CVD, LPCVD ve PECVD sistemleri için sahte gofret

● Oksidasyon ve difüzyon fırınlarında proses taşıyıcısı veya termal kalkan

● UV/DUV litografi için fotomaske alt tabakası

● Ekipman kalibrasyonu ve metrolojisi için referans gofret

● Plazma odası penceresi ve aşındırma işlemi koruyucusu

Semixlab Yarıiletken Kuvars Plaka, en zorlu yarıiletken prosesleri için tasarlanmış yüksek performanslı bir alt tabakadır. Isıl kararlılığı, optik hassasiyeti ve kimyasal saflığı, onu biriktirme, oksidasyon, litografi ve metroloji uygulamalarında vazgeçilmez kılar. Kapsamlı özelleştirme ve mühendislik desteğiyle Semixlab, proses tutarlılığını, verim güvenilirliğini ve operasyonel verimliliği en üst düzeye çıkaran çözümler sunar. Çin'deki uzun vadeli ortağınız olmayı içtenlikle umuyoruz.