Silisyum Karbür Sic Gözenekli Seramik Disk

Name: Silisyum Karbür Sic Gözenekli Seramik Disk
Brand: Semixlab
Price: 60.0 USD
Availability: InStock
Rating: 5 (18 reviews)

Semixlab'ın Silisyum Karbür (SiC) Gözenekli Seramik Diski, hassasiyet, saflık ve dayanıklılık gerektiren yüksek performanslı yarı iletken gofret işleme uygulamaları için tasarlanmıştır. Kontrollü mikro gözeneklilik, üstün ısıl iletkenlik ve kimyasal atalet özellikleriyle bu bileşen, vakumlu sıkıştırma, CMP (Kimyasal Mekanik Parlatma), epitaksi ve gofret işleme sistemlerinde önemli bir rol oynar.

SORGULAMA

Açıklama

İdeal kullanım alanları: CMP platformları, MOCVD epitaksi reaktörleri, gofret transfer modülleri, plazma temizleme sistemleri ve ESC alt tabaka montajları.

Ⅰ. Malzeme Bileşimi ve Fiziksel Özellikler

Yüksek Saflıkta SiC Seramik Yapısı

%99.9 veya daha fazla ultra saf α-SiC veya β-SiC tozlarından üretilen her gözenekli disk, hassas kontrollü sinterleme ve sızma işlemleriyle üretilir. Sonuç, zorlu işleme ortamlarında kararlı gaz akışı ve mekanik bütünlük sağlayan tek tip bir gözenek ağıdır.

Temel Teknik Özellikler:

Varlığınızı	Özellikler
Malzeme	α-SiC / β-SiC
Saflık	≥ 99.9%
gözeneklilik	%10–40 (ayarlanabilir)
Gözenek büyüklüğü	0.1-10 μm
Termal iletkenlik	120–200 W/m·K
Maksimum Çalışma Sıcaklığı	1600-1800 ° C
Sertlik	Mohs9.3
Kimyasal direnç	HF, HCl, Cl₂, H₂'de mükemmel
Yoğunluk	2.8–3.1 g/cm³

Performansın Önemli Noktaları:

● Homojen Vakum Geçirgenliği: Hassas gözenek dağılımı, gofret yüzeyinde dengeli gaz akışını sağlar.

● Mükemmel Termal Kararlılık: Yüksek sıcaklık çevrimlerinde mekanik bütünlüğünü korur.

● Düşük Partikül Oluşumu: Cilalı SiC yüzeyler kirlenme riskini en aza indirir.

● Üstün Dayanıklılık: Agresif kimyasal ve plazma ortamlarında bile uzatılmış hizmet ömrü.

Ⅱ. Yaygın Proses Zorlukları ve Semixlab Çözümleri

Zorluklar	Ana neden	Semixlab Çözümleri
Eşit Olmayan Vakum Emişi	Gözenek boyutunun düzensiz olması veya tıkanıklık	Kontrollü gözenek boyutu dağılımı ve periyodik plazma temizliği
Partikül Kirliliği	Termal döngüden kaynaklanan mikro çatlaklar	Yüzey güçlendirme için CVD SiC kaplaması uygulayın
Termal Düzensizlik	Eşit olmayan yoğunluk veya kirlenme	Yüksek iletkenliğe sahip SiC (>150 W/m`K) ve cilalı yüzeyler kullanın
Kimyasal Erozyon	HF veya Cl bazlı gazlara uzun süre maruz kalma	Korozyon direncini artırmak için yoğun CVD SiC hibrit sinterlemeyi benimseyin
Zamanla Azalan Mekanik Dayanıklılık	Tekrarlanan gofret yükleme gerilimi	Kırılma tokluğunu iyileştirmek ve hizmet ömrünü uzatmak için ikincil infiltrasyon

Semixlab'ın tescilli malzeme kontrolü ve yüzey mühendisliği, tutarlı performans, uzun vadeli güvenilirlik ve birden fazla işlem döngüsü boyunca azaltılmış ekipman arıza süreleri sağlar. Daha fazla teknik danışmanlık ve ürün özelleştirme hizmetleri için bize danışabilirsiniz.

Başvurular

Yarı İletken Proseslerinde Uygulamalar

1. Wafer Vakumlama ve Taşıma

Gözenekli SiC diskler, wafer yükleme ve transfer sistemlerinde vakumlu kalıp plakaları veya taşıyıcı destekleri olarak yaygın olarak kullanılır. Hassas bir şekilde tasarlanmış gözeneklilikleri, homojen vakum emişini garanti ederek wafer deformasyonunu ortadan kaldırır ve hizalama doğruluğunu artırır.

2. Kimyasal Mekanik Parlatma (CMP)

CMP sırasında gözenekli SiC disk, taşıyıcı veya destek plakası görevi görerek şunları sağlar:

● Eşit bulamaç dağılımı

● Kararlı gofret desteği

● İyileştirilmiş düzlemsellik ve kusur kontrolü

Geleneksel alümina veya kuvars ile karşılaştırıldığında, SiC daha yüksek sertlik ve ısıl iletkenlik sunarak daha uzun bir kullanım ömrü ve iyileştirilmiş işlem tutarlılığı sağlar.

3. Epitaksi ve Yüksek Sıcaklık İşleme

MOCVD ve LPE epitaksiyel reaktörlerde, SiC gözenekli disk, termal reseptör tabanı veya destek platformu olarak işlev görerek şunları sağlar:

● Gofret boyunca düzgün ısı transferi

● Kararlı epitaksiyel tabaka kalınlığı

● Reaktif proses gazlarına karşı yüksek direnç

4. Islak ve Plazma Temizleme Sistemleri

Kimyasal ve plazma korozyon direnci sayesinde gözenekli SiC disk, ıslak tezgahlarda ve temizleme odalarında gaz difüzyon plakası veya kimyasal filtrasyon alt tabakası olarak etkili bir şekilde performans gösterir.

5. ESC (Elektrostatik Mandren) Taban Katmanı

Gelişmiş gofret aşamalarında, gözenekli SiC seramikleri, ESC'ler için termal taban görevi görerek, hassas gofret sıcaklığı kontrolü için mükemmel ısı transferi ve elektrik yalıtımını bir araya getirir.