EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Yüksek saflıkta kuvars difüzyon fırın tüpü
| Menşe Yeri: | Çin |
| Marka adı: | Yarıxlab |
| Model numarası: | Qwb-2025 |
| sertifikasyon: | ISO9001 |
| Minimum sipariş miktarı: | 10 |
| Fiyat: | Özelleştirilmiş Teklif İçin İletişime Geçin |
| Paketleme Detayları: | Anti-Statik Köpük + Ahşap Kasalar (Özelleştirilebilir) |
| Teslim Süresi: | Teslimat Süresi: Sipariş Onayından Sonra 20-35 Gün |
| Ödeme Koşulları: | T / T |
| Yetenek Kaynağı: | 1000 Birim/Ay |
Açıklama
Yüksek saflıkta kuvars difüzyon fırın tüpü, yarı iletken gofret imalatında yüksek sıcaklık difüzyon işlemi için özel olarak tasarlanmıştır. Ultra yüksek saflıkta sentetik kuvars kumu (SiO2) ile üretilir.2saflık ≥99.999%). 7 nm'nin altındaki gelişmiş proseslerin temizlik, termal kararlılık ve kimyasal atalet için sıkı gereklilikleri karşılayın. Ark eritme prosesi ve hassas işleme teknolojisi ile ürünler, 1200℃ yüksek sıcaklık ortamında yapının kararlılığını sağlamak için, fosfor/bor katkılama, oksit büyümesi ve diğer temel proseslerde yaygın olarak kullanılır.
Çekirdek malzemeler ve özellikleri
Ultra yüksek saflıkta malzeme
SiO₂ saflığı: ≥%99.999 (5N sınıfı), toplam safsızlık elementi ≤2ppm (SEMI F63 standardına uygun).
Ana safsızlık kontrolü: Li+Na+K≤0.5ppm, Fe≤0.1ppm, Al≤0.3ppm, B≤0.05ppm (doping girişimini önleyin).
Hidroksil içeriği: ≤1ppm (yüksek sıcaklıkta hidrojen çıkışının neden olduğu yonga kusurlarını önlemek için dehidroksilasyon işleminden sonra).
Termal performans optimizasyonu
Isıl genleşme katsayısı: 5.5×10-7K-1(20-1000 °C) ani sıcaklık değişimlerinden kaynaklanan deformasyon çatlaklarını önler.
Yumuşama noktası: 1680℃, uzun vadeli çalışma sıcaklığı ≤1250℃ (hızlı yükselme ve soğutma sürecini destekler).
Isıl şok direnci: 1200℃→ oda sıcaklığında söndürme çevriminde ≥200 kez dayanıklıdır (ASTM C338 standardı doğrulaması).
Kimyasal inertlik ve temizlik
Korozyon direnci: HF, HCl, HNO₃ ve diğer kuvvetli asitlere dayanıklıdır (ağırlık kaybı oranı ≤0.005 mg/cm²·h).
Yüzey temizliği: Ra≤0.1μm (CMP parlatma), partikül madde ≤5/m2 (@0.1μm, ISO Sınıf 1'e uygun).
Metal kirliliği kontrolü: yüzey metal kalıntısı ≤0.1ppb (ICP-MS tespiti).
Hızlı Detay:
1. Diğer adları: Kuvars reaksiyon tüpü, yüksek sıcaklık fırın tüpü.
2. Uygulama: Wafer difüzyon işlemi.
3. Çekirdek parametreleri: Saflık ≥%99.995, sıcaklık direnci 1600℃, iç çap 20-300mm.
Özellikler
| Parametre | indeks |
| Malzeme saflığı | ≥%99.995 SiO₂ |
| Maksimum çalışma sıcaklığı | 1600℃ (sürekli çalışma) |
| Termal şok direnci | ΔT=1000℃su soğutması bozulmaz |
| İç çap aralığı | 20-300mm (±0.5mm tolerans) |
| Uzunluk özelleştirilmiş | 500-3000mm |
Başvurular
Yüksek sıcaklıkta difüzyon dopingi.
Fosfor/Bor katı hal kaynaklı difüzyon (1000-1200℃).
Hızlı Termal Tavlama (RTA) işlemi (yükselme/soğuma hızı ≥100℃/s).
Rekabet Avantajı
Ultra yüksek saflık ve kristalleşme direnci, fırın tüpünün ömrünü uzatır.
Karmaşık yapı tasarımlarını destekleyin, çeşitli süreç gereksinimlerine uyum sağlayın.
Sıkı boyut tolerans kontrolü (±0.5mm).
